SiC CVD
- CVD炉系统（定制）
- 1~9根杆（每根杆最多30个环）
- 泵送/冷却装置
- MTS供应和储罐公用设施
- 建模、流程工程与物流
- 用于全自动系统控制的软件
Special 阀门
- 加热真空阀 (V/V)
- 冷却 V/V（可在 300 度以上的温度下工作）
- 带非外露O型圈的真空阀
- Chamber Roughing V/V
- Chamber Gate V/V
- Protection Gate V/V
- Auto Gate V/V
- Angle V/V 用于远程等离子体系统
- Gate V/V 用于远程等离子体系统
设备
- 半导体制造中的真空和等离子体技术
- 等离子体源室 (ICP, CCP, PE, RIE)
- 传输室，装载锁定室
- 大学和科研院所用真空处理设备
- Etch/CVD 设备
- CVD炉设备
- LCD, OLED 设备
软件开发
- 半导体工艺自动化控制系统
- 通过现场总线发送/接收 I/O 信号来控制设备（腔室）。
- 系统结构以图形用户界面 (GUI) 显示。
- PLC (Mitsubishi) 之间的通信控制
- 编程语言: C, C++, Windows API
- 操作系统: MS Windows 10-11
零件加工
- 半导体元件的超精密制造
- 铝、钢和非金属制造业
- 独立设计和装配检验
- 在 SOLIDWORKS 中建模，并与 SolidCAM 连接
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